🔬 Японский физик упростил производство чипов для ИИ Профессор Цумору Синтакэ из Окинавского института науки и технологи
Профессор Цумору Синтакэ из Окинавского института науки и технологий предложил радикально новую архитектуру для EUV-литографии — технологии, которая сегодня печатает передовые микросхемы. Вместо сложной внеосевой оптики, которую используют сканеры ASML за сотни миллионов евро, учёный разработал линейную систему, где маска, зеркала и кремниевая пластина выстроены в одну ось. Такое решение может снизить стоимость оборудования в 3-4 раза и позволит печатать элементы размером 2-3 нанометра.
Ключевая проблема современной EUV-литографии — 3D-эффекты маски, искажения из-за падения света под углом. Синтакэ обошёл её через систему из двух оптических блоков, каждый с парой вогнутых и выпуклых зеркал. Многократные отражения между ними компенсируют искажения, сохраняя высокое разрешение. В теории это работает идеально, но требует зеркал без потерь энергии — то, чего пока нет в реальных установках.
Команда уже начала собирать физический прототип. Если эксперимент подтвердит расчёты, производство чипов для ИИ и дата-центров может подешеветь даже при переходе на более плотные техпроцессы.
Сократит ли упрощённая оптика гонку за нанометрами или упрётся в физические пределы материалов?
📌 Новости в Telegram | Нейросети на chatru.net