21.07.2026 10:03
В России тестируют 150-нм литограф АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) завершил разработку установки э
В России тестируют 150-нм литограф
АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) завершил разработку установки электронно-лучевой литографии с проектной нормой 150 нм. Главный плюс этой технологии – не нужно применять маски, ЭЛ-литограф создает изображение при помощью сфокусированного пучка электронов, что в теории должно снизить себестоимость конечных чипов. Гендиректор ЗНТЦ Анатолий Ковалев сообщил:
Сейчас два опытных образца проходят комплекс испытаний, которые продлятся около четырех месяцев. После этого начнутся испытания на точность изображения и другие технологические параметры.
Использование ЭЛ-литографа оправдано для мелкосерийного производства, где создавать маски обычно невыгодно. При этом 150 нм – это уровень начала нулевых и Pentium 3, для микроконтроллеров такой производительности хватит с запасом.
Мой Компьютер
АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) завершил разработку установки электронно-лучевой литографии с проектной нормой 150 нм. Главный плюс этой технологии – не нужно применять маски, ЭЛ-литограф создает изображение при помощью сфокусированного пучка электронов, что в теории должно снизить себестоимость конечных чипов. Гендиректор ЗНТЦ Анатолий Ковалев сообщил:
Сейчас два опытных образца проходят комплекс испытаний, которые продлятся около четырех месяцев. После этого начнутся испытания на точность изображения и другие технологические параметры.
Использование ЭЛ-литографа оправдано для мелкосерийного производства, где создавать маски обычно невыгодно. При этом 150 нм – это уровень начала нулевых и Pentium 3, для микроконтроллеров такой производительности хватит с запасом.
Мой Компьютер