28.08.2026 12:14
Почему Китай до сих пор не наладил массовый выпуск самых передовых чипов по техпроцессу 5 нм и ниже?
Почему Китай до сих пор не наладил массовый выпуск самых передовых чипов по техпроцессу 5 нм и ниже? Один из главных барьеров — отсутствие доступа к EUV-литографии.
Ключевые установки для такого производства серийно выпускает только нидерландская ASML. В них используется экстремальный ультрафиолет с длиной волны 13,5 нанометра.
Обычные линзы здесь тоже не подходят. Свет направляют при помощи сверхточных зеркал, на поверхность которых наносятся более ста чередующихся слоев молибдена и кремния толщиной всего в несколько нанометров. Такая структура позволяет отражать около 70% EUV-излучения. Серийно такую оптику для литографических машин производит немецкая Zeiss.
Но сложная оптика — только часть системы. Само EUV-излучение получают при помощи мощного лазера, который десятки тысяч раз в секунду попадает в микроскопические капли олова. Они превращаются в раскаленную плазму, температура которой примерно в 40 раз выше температуры поверхности Солнца. Эта плазма и становится источником необходимого ультрафиолета.
Одновременно установка должна с нанометровой точностью управлять оптикой, источником света и движением кремниевой пластины. Поэтому создать собственную EUV-систему значительно сложнее, чем воспроизвести какой-либо отдельный ее компонент.
Китай постепенно приближается к решению этой задачи. Уже появились сообщения о создании собственного прототипа EUV-установки, способного генерировать необходимое излучение. Однако даже в 2026 году между работающим прототипом и надежной машиной для массового производства передовых процессоров остается огромная технологическая дистанция.
@madam_secretar
Ключевые установки для такого производства серийно выпускает только нидерландская ASML. В них используется экстремальный ультрафиолет с длиной волны 13,5 нанометра.
Обычные линзы здесь тоже не подходят. Свет направляют при помощи сверхточных зеркал, на поверхность которых наносятся более ста чередующихся слоев молибдена и кремния толщиной всего в несколько нанометров. Такая структура позволяет отражать около 70% EUV-излучения. Серийно такую оптику для литографических машин производит немецкая Zeiss.
Но сложная оптика — только часть системы. Само EUV-излучение получают при помощи мощного лазера, который десятки тысяч раз в секунду попадает в микроскопические капли олова. Они превращаются в раскаленную плазму, температура которой примерно в 40 раз выше температуры поверхности Солнца. Эта плазма и становится источником необходимого ультрафиолета.
Одновременно установка должна с нанометровой точностью управлять оптикой, источником света и движением кремниевой пластины. Поэтому создать собственную EUV-систему значительно сложнее, чем воспроизвести какой-либо отдельный ее компонент.
Китай постепенно приближается к решению этой задачи. Уже появились сообщения о создании собственного прототипа EUV-установки, способного генерировать необходимое излучение. Однако даже в 2026 году между работающим прототипом и надежной машиной для массового производства передовых процессоров остается огромная технологическая дистанция.
@madam_secretar