17.06.2026 12:53
Балльная система признания российским оборудования для чипов
💥 Власти ввели балльную систему для признания российским оборудования по производству чипов
Правительство утвердило балльную систему оценки оборудования для производства микроэлектроники, необходимую для признания такой продукции российской.
Документ № 601 от 26 мая 2026 г. вносит изменения в постановление правительства № 719 «О подтверждении производства российской промышленной продукции», дополняя раздел IX восемью новыми позициями: от установок для эпитаксиального выращивания структур до оборудования для полировки пластин. Документ был опубликован на официальном портале правовой информации в конце мая 2026 г.
Постановление вводит балльную систему для восьми категорий оборудования: установки для эпитаксиального выращивания полупроводниковых структур, литографы, установки ионной имплантации, оборудование для производства полупроводниковых слитков, для термической обработки пластин (осаждения, диффузии и пр.), для формирования тонкопленочных структур, лазерное оборудование для обработки и полировки полупроводниковых пластин.
Например, производителям литографов будут давать по 30 баллов за российские источники излучения, катодные узлы, объективы, оптические тракты, электронно-оптические системы, вакуумные насосы, модули совмещения и высоковольтные источники питсния, по 20 баллов — за использование отечественных механизмов перемещения пластин, контроллеров и устройств сопряжения, по 10 — за детекторы электронов, механизмы загрузки, ИБП, электротехнику и каркас. Подробнее тут
Правительство утвердило балльную систему оценки оборудования для производства микроэлектроники, необходимую для признания такой продукции российской.
Документ № 601 от 26 мая 2026 г. вносит изменения в постановление правительства № 719 «О подтверждении производства российской промышленной продукции», дополняя раздел IX восемью новыми позициями: от установок для эпитаксиального выращивания структур до оборудования для полировки пластин. Документ был опубликован на официальном портале правовой информации в конце мая 2026 г.
Постановление вводит балльную систему для восьми категорий оборудования: установки для эпитаксиального выращивания полупроводниковых структур, литографы, установки ионной имплантации, оборудование для производства полупроводниковых слитков, для термической обработки пластин (осаждения, диффузии и пр.), для формирования тонкопленочных структур, лазерное оборудование для обработки и полировки полупроводниковых пластин.
Например, производителям литографов будут давать по 30 баллов за российские источники излучения, катодные узлы, объективы, оптические тракты, электронно-оптические системы, вакуумные насосы, модули совмещения и высоковольтные источники питсния, по 20 баллов — за использование отечественных механизмов перемещения пластин, контроллеров и устройств сопряжения, по 10 — за детекторы электронов, механизмы загрузки, ИБП, электротехнику и каркас. Подробнее тут